產(chǎn)品描述
PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD納米涂層通常稱謂：鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD鍍鈦，納米鍍鈦，納米涂層，真空鍍鈦加工，真空涂層，表面處理等。
真空鍍鈦涂層特點：增壽、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能廣泛應(yīng)用于模具工業(yè)中。
多元復(fù)合涂層種類：氮化鈦（TiN）氮化鉻（CrN）氮化鎢（Wu-N）碳化鎢（Wu-C）氮化鋯（ZrN）碳氮化鈦（TIcN）碳氮化鉻（CrCN）氮化鈦鋁（TiAlN）氮化鋁鈦（AlTiN）氮化鈦鉻（TiCrN）氮化鈦硅（TiSiN）氮化鋯硅（ZrSiN）氮化鉻鋁（CrAlN）氮化鉻硅（CrSiN）氮化鈦鋁鉻（TiAlCrN）氮化鈦鋁硅（TiAlSiN）氮化鈦鋁鉻硅（TiAlCrSiN）類金剛石（DLC）炭化鉻鎢（CrN-Wc)等各種超硬膜層，其涂層厚度可達到0.5～5um，故而您不用擔心會給尺寸帶來麻煩，并以新工藝使產(chǎn)品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產(chǎn)成本。
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