霍爾離子源 eH 3000

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KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理國(guó)外進(jìn)口進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 較適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上較**, 提供較高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷卻
• 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),較大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 非常高真空系統(tǒng); 安裝方便
• **的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術(shù)參數(shù)

• 可選: 可調(diào)角度的支架;
  
  KRI 霍爾離子源 eH 3000 應(yīng)用領(lǐng)域
  濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
  輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD
  表面改性, 激活 SM
  直接沉積 DD

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