KRI 霍爾離子源 eH 1000

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KRI 霍爾離子源 eH 1000
上海伯東代理國(guó)外進(jìn)口進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 **氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系前體

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 較大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 非常高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷
• **的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

• 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder
  
  KRI 霍爾離子源 eH 1000 應(yīng)用領(lǐng)域:
  • 離子輔助鍍膜 IAD
  • 預(yù)清洗 Load lock preclean
  • 預(yù)清洗 In-situ preclean
  • Direct Deposition
  • Surface Modification
  • Low-energy etching
  • III-V Semiconductors
  • Polymer Substrates

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