青島曼什微電子設(shè)備制造有限公司

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主營:擴(kuò)散/氧化爐,太陽能設(shè)備,LPCVD,LED合金爐,真空/氮?dú)鉅t,鏈?zhǔn)?隧道爐,壓力燒結(jié)爐,真空熱處理爐

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  • PECVD
    PECVD

    產(chǎn)品介紹pecvd滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積sio2、si3n4、poly-si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。pecvd系統(tǒng)性能特點(diǎn):結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式熱壁型硅片規(guī)格:2—8英寸硅片(或125×125m

    2010-08-15 /
  • 控制系統(tǒng)
    控制系統(tǒng)

    控制系統(tǒng)類產(chǎn)品:溫控系統(tǒng)、氣源柜、控制柜、溫控器、溫控儀上述系統(tǒng)可應(yīng)用于進(jìn)口設(shè)備改造,翻新等,采用中文視窗操作系統(tǒng)對爐溫、整個工藝流程進(jìn)行自動控制,并能記錄管理歷史數(shù)據(jù)。可實(shí)時修改工藝溫度曲線,實(shí)時溫度曲線/數(shù)據(jù)記錄,可報表、存儲、打印。硬件故障自診斷,雙重安全保護(hù)。預(yù)留與上位機(jī)通訊接口,可

    2010-08-15 /
  • 擴(kuò)散爐
    擴(kuò)散爐

    所屬行業(yè):半導(dǎo)體工藝設(shè)備產(chǎn)品內(nèi)容:產(chǎn)品應(yīng)用:應(yīng)用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領(lǐng)域,適用2~8英寸工藝尺寸產(chǎn)品特點(diǎn):◆主機(jī)為水平一至四管爐系統(tǒng)構(gòu)架,單獨(dú)完成不同的工藝或相同工藝◆工業(yè)計算機(jī)控制系統(tǒng),對爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閘門

    2010-08-15 /
  • MAS-R系列鏈?zhǔn)胶娓蔂t
    MAS-R系列鏈?zhǔn)胶娓蔂t

    mas-r系列鏈?zhǔn)胶娓蔂t設(shè)備主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊、焊接及集成電路金屬化管殼等氣密性封裝,玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行,運(yùn)載能力大,并采用水、氣電轉(zhuǎn)換器控制傳感啟動緊急信號及超溫保護(hù)啟動緊急信號功能。設(shè)有斷氫啟動緊急信號與自動點(diǎn)火裝置主要技術(shù)指標(biāo):工作溫度:20

    2010-08-12 /
  • 氧化爐
    氧化爐

    所屬行業(yè):半導(dǎo)體工藝設(shè)備產(chǎn)品內(nèi)容:產(chǎn)品應(yīng)用:應(yīng)用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領(lǐng)域,適用2~8英寸工藝尺寸產(chǎn)品特點(diǎn):◆主機(jī)為水平一至三管爐系統(tǒng)構(gòu)架,單獨(dú)完成不同的工藝或相同工藝◆工業(yè)計算機(jī)控制系統(tǒng),對爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閘門等動作進(jìn)

    2010-08-12 /
  • LPCVD
    LPCVD

    所屬行業(yè):半導(dǎo)體工藝設(shè)備產(chǎn)品內(nèi)容:產(chǎn)品應(yīng)用:用于2-6英寸多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜生長工藝及其摻雜如psg或bpsg等產(chǎn)品特點(diǎn):◆主機(jī)為水平三管爐系統(tǒng)構(gòu)架,單獨(dú)完成不同的工藝或相同工藝◆工業(yè)計算機(jī)控制系統(tǒng),對爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閘門等動作進(jìn)行自動控制◆采

    2010-08-12 /