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KRI 考夫曼離子源 KDC 160

價格

面議

  • 單價:電議
  • 最小起訂量: 1
  • 所在地:上海 上海
  • 供貨總量: 1000
  • 發(fā)布時間:2023-12-13

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產(chǎn)品描述

 

 

 

因產(chǎn)品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準(zhǔn)。

KRI 考夫曼離子源 KDC 160
上海伯東代理國外進口進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列較大,離子能量較強的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應(yīng)用, 離子源 KDC 160 高輸出設(shè)計,較大電流超過 1000 mA. 無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計,標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)

型號

KDC 160

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

2

 - 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對準(zhǔn)

 -柵極直徑

16 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安裝

移動或快速法蘭

 - 高度

9.92

 - 直徑

9.1

 - 離子束

聚焦
平行
散設(shè)

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

8-45”

 - 自動控制

控制4種氣體

  • 可選: 可調(diào)角度的支架

    KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應(yīng)用領(lǐng)域
    濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
    輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
    表面改性, 激活 SM
    離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
    離子蝕刻 IBE

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