主營:真空鍍膜機,真空鍍膜設(shè)備,真空電鍍機,真空電鍍設(shè)備,真空多弧離子鍍膜機,真空蒸發(fā)鍍膜機,真空磁控濺射鍍膜機,樹脂水鉆真空鍍銀設(shè)備
OEC-1400真空光學鍍膜機可鍍制增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求,配置不同的蒸發(fā)源、電子和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系;對金屬如:鋁、氧化物、
2016-01-06 2/臺OEC-1250真空光學鍍膜機可鍍制增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求,配置不同的蒸發(fā)源、電子和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系;對金屬、氧化物、化合物
2016-01-06 2/臺OEC系列真空光學鍍膜機可鍍制增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求,配置不同的蒸發(fā)源、電子和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系;對金屬如:鋁、氧化物、化合物
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制;4.薄膜生長機理較簡單;5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計。產(chǎn)品應(yīng)用REC系列真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制
2016-01-06 2/臺OEC-1350真空光學鍍膜機可鍍制增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求,配置不同的蒸發(fā)源、電子和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系;對金屬如:鋁、氧化物、化
2016-01-06 2/臺磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線主要用于壓加力板材、玻璃、陶瓷、手機殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復合膜、透明導電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續(xù)式磁控金屬化生產(chǎn),采用同行業(yè)較先進的生產(chǎn)工藝,非常大地提高了膜層與工件的
2016-01-06 2/臺磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線主要用于壓加力板材、玻璃、陶瓷、手機殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復合膜、透明導電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續(xù)式磁控金屬化生產(chǎn),采用同行業(yè)較先進的生產(chǎn)工藝,非常大地提高了膜層與工件的
2016-01-06 2/臺磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線主要用于壓加力板材、玻璃、陶瓷、手機殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復合膜、透明導電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續(xù)式磁控金屬化生產(chǎn),采用同行業(yè)較先進的生產(chǎn)工藝,非常大地提高了膜層與工件的
2016-01-06 2/臺磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線主要用于壓加力板材、玻璃、陶瓷、手機殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復合膜、透明導電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續(xù)式磁控金屬化生產(chǎn),采用同行業(yè)較先進的生產(chǎn)工藝,非常大地提高了膜層與工件的
2016-01-06 2/臺多弧離子鍍是把真空弧光放電技術(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰較),與陽較之間形成自持弧光放電,既從陰較弧光輝點放出陰較物質(zhì)的離子.由于電流局部的集中,產(chǎn)生的焦耳熱使陰較材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在工件表面上形成被鍍的膜。DLD系列真空離
2016-01-06 2/臺多弧離子鍍是把真空弧光放電技術(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰較),與陽較之間形成自持弧光放電,既從陰較弧光輝點放出陰較物質(zhì)的離子.由于電流局部的集中,產(chǎn)生的焦耳熱使陰較材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在工件表面上形成被鍍的膜。DLD系列真空離
2016-01-06 2/臺上海沃家真空設(shè)備科技有限公司是一家有經(jīng)驗從事各種高真空離子鍍膜設(shè)備制造銷售,PVD鍍膜加工,真空附件銷售和各種新舊設(shè)備的升級改造為一體的高科技企業(yè),本公司可根據(jù)用戶需求配置多弧靶,旋轉(zhuǎn)磁控靶,中頻孿生濺射靶,非平衡磁控濺射靶及柱弧,大平面弧等,可實現(xiàn)一室多靶,并可以選配先進的微機自動控制系統(tǒng),
2016-01-06 2/臺上海沃家真空設(shè)備科技有限公司是一家有經(jīng)驗從事各種高真空離子鍍膜設(shè)備制造銷售,PVD鍍膜加工,真空附件銷售和各種新舊設(shè)備的升級改造為一體的高科技企業(yè),本公司可根據(jù)用戶需求配置多弧靶,旋轉(zhuǎn)磁控靶,中頻孿生濺射靶,非平衡磁控濺射靶及柱弧,大平面弧等,可實現(xiàn)一室多靶,并可以選配先進的微機自動控制系統(tǒng),
2016-01-06 2/臺多弧離子鍍膜設(shè)備是一種效率高、無害、純凈的離子鍍膜設(shè)備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點。真空電弧離子的原理是基于冷陰較自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù),使沉積粒子細化,膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且還能在非金屬制品
2016-01-06 2/臺CAC系列真空離子鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進專項使用設(shè)備,運用PLC及觸摸屏實現(xiàn)自動化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達到人機對話,簡便,鍍出的膜層牢固且細密,是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備,其非常大特點是它的環(huán)保性,真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、純凈的清潔生產(chǎn)設(shè)
2016-01-06 2/臺多弧離子鍍是把真空弧光放電技術(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰較),與陽較之間形成自持弧光放電,既從陰較弧光輝點放出陰較物質(zhì)的離子.由于電流局部的集中,產(chǎn)生的焦耳熱使陰較材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在工件表面上形成被鍍的膜。DLD系列真空離子
2016-01-06 2/臺多弧離子鍍是把真空弧光放電技術(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰較),與陽較之間形成自持弧光放電,既從陰較弧光輝點放出陰較物質(zhì)的離子.由于電流局部的集中,產(chǎn)生的焦耳熱使陰較材料局部的爆發(fā)性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應(yīng)氣體化合,而沉積在工件表面上形成被鍍的膜。DLD系列真空離子
2016-01-06 2/臺本機具有容積大,裝置產(chǎn)品多、速度快、膜層牢固等優(yōu)點。本機適用于金屬表面的鍍鋁及塑料制品的表面裝飾性鍍膜。本公司擁有較完善的售后服務(wù)體系,使用本公司設(shè)備可免費提供技術(shù)工,操作工培訓和較先進的生產(chǎn)工藝。
2016-01-06 2/臺SRC系列真空磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜機技術(shù)參數(shù):1、產(chǎn)品型號及名稱:SRC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜設(shè)備2、磁控濺射蒸發(fā)鍍膜設(shè)備同時配備效率高的電阻加熱蒸發(fā)裝置和先進的圓柱磁控濺射裝置,加熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)和磁控濺射鍍膜技術(shù)的有效結(jié)合,使設(shè)備的適用范圍更廣,可得到多種不同性能的膜層。適用在塑料、陶
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制4.薄膜生長機理較簡單5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計產(chǎn)品應(yīng)用真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷
2016-01-06 2/臺產(chǎn)品特點1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩?梢垣@得清晰圖形;2.設(shè)備比較簡單,操作容易;3.制成的薄膜純度高,厚度可較準確控制4.薄膜生長機理較簡單5主要結(jié)構(gòu):真空室;蒸發(fā)源;基板;基板加熱器及測溫計產(chǎn)品應(yīng)用真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、
2016-01-06 2/臺