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陶瓷真空鍍膜設備多弧離子鍍膜設備是一種效率高、無害、純凈的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優(yōu)點。真空電弧離子的原理是基冷陰較自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表
2011-03-30 / -
多弧離子鍍膜設備此設備是一種效率高、無害、純凈的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優(yōu)點。真空電弧離子的原理是基冷陰較自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍
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蒸發(fā)鍍膜設備該設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產效率高、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)�？杉庸さ牟牧习ǎ篴bs、ps、pp、pc、pvc、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、tpu等。鍍制
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工具專項使用鍍膜設備工具專項使用鍍膜設備，即多弧離子鍍膜設備。此設備是一種效率高、無害、純凈的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優(yōu)點。真空電弧離子的原理是基冷陰較自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品
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