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作為半導體製造設備內部的保護性塗層，半導體乾蝕設備內部暴於高反應性鹵素或氧系電漿。若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以
鋁卷陽極氧化
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