產品描述
淺談RCA濕法清洗
1.SPM3#液去污及部分金屬
2.APM1#液去表面顆粒及金屬雜質
3.HPM2#液去金屬粒子
4.DHF去氧化層和金屬粒子
5.去離子水沖洗
訂制酸堿洗設備請聯系：蘇州晶淼半導體設備有限公司
蘇州晶淼半導體設備有限公司提供RCA清洗機、金屬腐蝕清洗機、二氧化硅腐蝕機、多晶腐蝕清洗機、鋁腐蝕機、去膠清洗機、酸/堿腐蝕機、無機腐蝕機、清洗機、顯影清洗機、石英管清洗機、高溫腐蝕清洗機、單片清洗機、自動片盒清洗機、硅片顯影臺、LED芯片清洗機、濕法刻蝕設備、超聲波清洗機
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單價：100000 元
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- 蘇州晶淼半導體設備有限公司
- 經營模式：制造商+其他機構
- 主營：槽式清洗設備,單片清洗設備,金屬腐蝕清洗機,RCA清洗機,二氧化硅腐蝕機,酸/堿腐蝕機
- 地區(qū)：江蘇 蘇州
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