一、CMOS全譜光譜分析儀技術(shù)特點(diǎn)
1、儀器光學(xué)系統(tǒng)采用帕型-龍格裝置,高真空,分辨率高、靈敏度高等特點(diǎn);由于機(jī)刻光柵可以產(chǎn)生較次的光譜,所以選線更具靈活性,從而避免光譜干擾;
2、儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,電子系統(tǒng)高度集成化電路,故障率低;
3、分析速度快、重復(fù)性好、穩(wěn)定性好;
4、可用于多種基體分析: Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等;
5、采用純中文Windows系統(tǒng)下的操作軟件,操作簡單易懂;
6、計(jì)算機(jī)軟件建有數(shù)據(jù)庫系統(tǒng),方便了測量數(shù)據(jù)的查詢與打印,也可通過網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程傳輸數(shù)據(jù),方便快捷;
7、各項(xiàng)系統(tǒng)供電,組成單元,使用方便,維護(hù)簡單;
8、采用光學(xué)部分恒溫措施,保證了儀器的正常運(yùn)行,從而降低了對環(huán)境的要求;
9、加、改變元素通道,通過軟件設(shè)置就可以,無須添加任何硬件,省心、省時(shí)、省錢
10、分析速度快捷,30秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用較短的時(shí)間達(dá)到好的分析效果;
11、光譜儀光學(xué)系統(tǒng)采用真空、恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性較佳;
12、自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
13、式的電架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
14、工作曲線采用標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;
15、激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;
16、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性;
17、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
18、高性能DSP及ARM處理器,具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況。
二、CMOS全譜光譜分析儀參數(shù)
2.1光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu):帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜光學(xué)系統(tǒng)
波長范圍:160-680nm
光柵焦距:350nm
光柵刻線:3600/mm
一級光譜線色散率:1.1 nm/mm
光電檢測器:多塊高性能線陣CMOS
2.2 激發(fā)臺
本激發(fā)臺采用沖氬式,噴射式電結(jié)構(gòu),帶有自動(dòng)吹掃功能。激發(fā)臺開孔尺寸13mm。
2.3 激發(fā)光源
類型:全數(shù)字式火花激發(fā)光源
頻率:100-1000Hz
放電電流:脈沖1-400A
2.4 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理,基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸。
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