氧化鋁晶體顆粒磁控濺射靶材

科研實驗專項使用氧化鋁晶體顆粒磁控濺射靶材

化學符號：Al2O3

　　外 觀:透明

　　規(guī)格：1-3mm

　　純度：4N

　　密 度：4g/cm3

　　熔 點：2045℃

　　沸 點：2980℃

　　蒸發(fā)溫度：1800℃

　　蒸發(fā)方式：電子束

　　透明范圍/nm：200-7000

　　折射率n（波長/nm）：1.59(600)/1.56(1600)

　　基片溫度為300℃時，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；

　　基片溫度為40℃時， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；

　　蒸發(fā)源材料:W 、Mo

　　溶 解 于：純酸、堿

　　薄膜的機械和化學性質(zhì)：形成光滑的硬膜

　　性 能：高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高度度、抗磨損、舒緩反應、絕緣性好和表面積大等特點；不溶于水，微溶于強酸和強堿溶液，并能被氫氟酸和硫酸氫鉀浸蝕；

　　高純超細氧化鋁的優(yōu)點：純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結；

　　應 用：增透膜，多層膜，防反膜，眼鏡膜，保護膜

　　用 途：廣泛應用于生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料；

陶瓷靶材采用常壓燒結,氣氛燒結,熱等靜壓燒結等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設計尺寸,坯料經(jīng)過準確機械加工成靶材,可根據(jù)客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。

產(chǎn)品優(yōu)勢        靶材純度高,致密度高,成分均勻 廠家直銷

產(chǎn)品規(guī)格        圖片靶材，矩形靶材，圓柱靶材，臺階片靶材，管型靶材，根據(jù)客戶的圖紙定制

產(chǎn)品用途 磁控濺射鍍膜材料等

產(chǎn)品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測單

適用儀器 各類型號磁控濺射設備

服務項目  靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂

加工流程  熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

廠家優(yōu)勢

   廠家直銷

   收貨后7日內(nèi)可協(xié)商退換貨

   靶材種類齊全

支持合金靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價��！

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服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊�，質(zhì)量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 

質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫