主營:光氧催化凈化設(shè)備,等離子凈化設(shè)備,污水處理設(shè)備,脫硫脫硝設(shè)備,輸送設(shè)備生產(chǎn)銷售,機械加工,環(huán)保設(shè)備及配件
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出室外,這就是UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應(yīng),完全達到脫臭及殺滅細菌的目的。
UV光解廢氣處理設(shè)備的特點:
UV光解技術(shù)的特點: 成本低廉,運行穩(wěn)定可靠,無需專人看護,但在廢氣處理的速度上較慢,相比低溫等離子技術(shù)效率偏低。
低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被迅速擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。 低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在較短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。(注:低溫等離子體相對于高溫等離子體而言,屬于常溫運行。) 等離子體反應(yīng)區(qū)富含較高的物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等,廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在較短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形式產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較,等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍,這就是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)治理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。
與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比,等離子工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點: 低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理,具有處理效果好,成本雖然偏高,但運行費用較低,無二次污染,運行穩(wěn)定,操作管理簡便,即開即用等,瞬間就可以處理廢氣,效率高的同時,低溫等離子技術(shù)對環(huán)境的安全系數(shù)要求很高。
UV光解廢氣處理設(shè)備較其他廢氣處理設(shè)備的優(yōu)勢:
1、UV光解即紫外光照射技術(shù),通過紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜與253.7nm光譜對廢氣成分進行照射,分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧,利用臭氧對廢氣進行氧化分解的技術(shù)。該技術(shù)主要用于殺菌、消毒等工況。
2、主體設(shè)備配置不同: UV光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管、活性炭纖維過濾層組成。
3、去除能力不同:
UV光解產(chǎn)生臭氧氧化能力為1.24eV,只能氧化小部分廢氣組分。
4、使用壽命不同:
UV光解紫外燈管及電源(進口產(chǎn)品)8000小時;钚蕴坷w維層根據(jù)廢氣濃度的不同更換比較頻繁。
5、裝備化應(yīng)用安全防控措施不同:
UV光解主機設(shè)備基本無安全防控措施。
6、設(shè)備長周期運行的保障措施不同:
UV光解主機內(nèi)部光量子管長周期運行后管壁掛附的結(jié)焦物無在線清洗措施,影響設(shè)備的運行及去除效率。
7、一次性投入資金及能耗不同:
1)UV光解一次性投入資金略低。
2)UV光解能耗低。
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