設備用途
本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專項使用理想設備。
應用領域
半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、準確鑄造、金屬熱處理等行業(yè)領域。
技術參數(shù)
設備名稱:1200度微型管式爐
設備型號:MXG1200-80
爐管材質(zhì):石英管
爐管尺寸:外徑80*內(nèi)徑74*長度1000*壁厚3mm
加熱區(qū)尺寸:440
恒溫區(qū)尺寸:200
較高溫度:1200度(1小時)
工作溫度:≤1100度(連續(xù))
工作電源:單相 220V 50/60Hz 3Kw
加溫
加熱元件:電阻絲,環(huán)形加熱
升溫速率:20℃/min
測溫
測溫元件:N型熱電偶
控溫
溫控儀表:數(shù)顯儀表,智能化30段PID可編程控制。
控溫精度:±1℃,超溫啟動緊急信號
保溫
保溫材料:多晶氧化鋁纖維材料,保溫效果好,熱能損耗少。
充氣正壓:≤ 0.02MPa
可通氣體:惰性氣體和還原性氣體等。
法蘭(爐管兩端配有不銹鋼密封CF法蘭,包括準確針閥、指針式真空壓力表、軟管接頭,若有特殊需求,可選配以下法蘭)
1、聚四氟乙烯法蘭,用于有腐蝕環(huán)境。
2、水冷法蘭,用于更好防止密封圈老化。
3、KF法蘭,用于更好真空實驗需求。
真空(根本實際需要選配以下不同效果的真空泵或真空系統(tǒng))
1、標準旋片式機械真空泵,直插接口,較限真空可達50Pa。
2、DZK10-1低真空系統(tǒng),KF接口,較限真空可達1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系統(tǒng),KF接口,較限真空可達1*10-3Pa。
打開方式:向上開啟式,為了保證使用安全,本設備設計有開啟斷電功能。
外形尺寸:寬*深*高mm
包裝尺寸:
設備凈重:Kg
包裝毛量:
設備包箱:木箱+珍珠棉+防塵膜
發(fā)貨物流:送貨上門,不含卸貨。
質(zhì) 保 期:一年,相關耗材除外,如加熱元件等易耗件
標準配件
坩堝鉗1把、剛玉舟1只、爐鉤1把、管堵2只、石英管1根、304法蘭1套、密封圈4只、浮子流量計1只、耐高溫手套1雙、產(chǎn)品說明書1份、儀表說明書1份、保修證書1份。
可選配件
1、二三四路浮子或質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)。
2、DZK10-1低真空系統(tǒng)或GZK10-3高真空系統(tǒng)。
3、300W或500W等離子射頻電源。
4、可選配移動爐架,將管式爐放置在爐架上。
注意事項
1、為了不影響設備正常使用壽命,請不要過快升降溫。
2、請不要往管內(nèi)通入超過0.02MPa的氣體壓力。
3、本設備使用一段時間后,爐膛會出現(xiàn)微小裂紋,屬于正常現(xiàn)象,不會影響使用,可向業(yè)務人員免費索取氧化鋁涂層修補劑。
4、由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加準確安全。
5、當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)。
6、進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
7、石英管的長時間使用溫度≤1100℃
8、對于只對樣品加熱的實驗(不抽真空不通氣體),不建議使用時關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥。若需要關閉氣閥對樣品加熱,您必須時刻關注壓力表的指數(shù)(氣壓會隨溫度升降而變化),若壓力表指數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。
友情提示
可按需定制非標管式爐,如更大管徑,更長加熱區(qū)及各種特殊要求
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