等離子化學(xué)氣相沉淀反應(yīng)爐

產(chǎn)
品
特
點(diǎn)

   與普通的CVD系統(tǒng)相比，因?yàn)橛械入x子源的介入,系統(tǒng)的沉積溫度相對(duì)較低。
配備有滑軌式管式爐可以輕松實(shí)現(xiàn)快速降溫，實(shí)現(xiàn)快速退火。   
操控界面可配備液晶操作系統(tǒng)，圖文顯示，直觀易懂，對(duì)于設(shè)備的使用操作簡(jiǎn)單易學(xué)， 該系統(tǒng)較高工作溫度接近1150℃，能滿足大多數(shù)熱處理場(chǎng)合。該設(shè)備可具體用于：碳、 ZnO 納米管或納米線的制備也可以用于制備單層石墨烯以及各種CVD實(shí)驗(yàn) 。   

等
離
子
發(fā)
生
器

輸出功率:          5 ～500W    ± 1% . 
射頻頻率:          13.56 MHz    ±0.005% .
反射功率:          非常大約200W 
阻抗匹配:          自動(dòng)

真
空
泵
機(jī)
組

雙較旋片泵, 較限真空0.1Pa
KFD25 快接，不銹鋼波紋管，手動(dòng)擋板閥與法蘭，真空泵相連.
管內(nèi)真空可達(dá)1Pa,若要更高真空度可選配高真空機(jī)組。
可選：本公司進(jìn)口的防腐型數(shù)字式真空顯示計(jì)，其測(cè)量范圍為  3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測(cè)量氣體種類(lèi)不同而需要系數(shù)轉(zhuǎn)換。（需要另外計(jì)算費(fèi)用）

質(zhì)量流量計(jì)

質(zhì)量流量計(jì)(精度0.02% ) ：數(shù)字顯示，自動(dòng)控制.
MFC 1范圍:  0~100 sccm 
MFC 2和3:    0~500 sccm  
一個(gè)混氣罐，底部裝有泄廢液口.  
進(jìn)氣接口: 1/4NPS. 
出氣接口: 1/4NPS. 

水冷系統(tǒng)

水冷法蘭要求：水流量 >= 10L/M ，配有有經(jīng)驗(yàn)水冷機(jī)組。

管式爐                    

爐管直徑：80mm
爐管長(zhǎng)度：1400mm
爐膛長(zhǎng)度：440mm
控溫精度：±1℃
工作溫度：≦1200℃