X射線光電子電子光譜化學(xué)分析儀

X射線光電子能譜/電子光譜化學(xué)分析儀(XPS/ESCA)

品牌：Niton（尼通）	型號(hào)：XL3t
制造商：美國賽默飛世爾	經(jīng)銷商：朗鐸投資控股（北京）有限公司
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X射線光電子能譜(XPS),也稱為電子光譜化學(xué)分析儀(ESCA) ，是一種無損的表面分析技術(shù)。其原理是用X射線輻射樣品，使樣品表面原子或分子的內(nèi)層電子（或價(jià)電子）被激發(fā)出來成為光電子。檢測光電子動(dòng)能，然后以光電子的動(dòng)能為橫坐標(biāo)，相對(duì)強(qiáng)度為縱坐標(biāo)做出光電子能譜圖。從而獲得試樣原子組成和化學(xué)鍵合信息。 XPS的測試深度約 50-70Å，檢測限約為0.01%。此外，XPS可用于材料的深度分析。

XPS的主要應(yīng)用

識(shí)別污點(diǎn)或變色

清潔度的表征

分析粉末和碎片的組成份

識(shí)別和量化表面變化前后聚合物的功能參數(shù)

測量硬盤上的潤滑劑厚度

深度分析

測量樣品的氧化層厚度

XPS技術(shù)性能

信號(hào)檢測

光電子

元素檢測

Li-U及其化合價(jià)信息

檢測限

0.01 – 1% （原子百分比）

深度分辨率

20 - 200 Å（深度分析模式）

10 - 100 Å (表面分析）

成像/繪圖

是

橫向分辨率

10 µm

 XPS分析的理想用途

有機(jī)材料、無機(jī)材料、污點(diǎn)、殘留物的表面分析

測量表面成分及化學(xué)狀態(tài)信息

薄膜成份的深度剖析

硅氧氮化物厚度及成分分析

薄膜氧化物厚度測量（SiO2, Al2O3 等）

XPS分析的相關(guān)領(lǐng)域

航空航天

汽車

生物醫(yī)學(xué)

半導(dǎo)體

數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

國防

顯示器

電子

工業(yè)產(chǎn)品

照明

制藥

光電子

聚合物

半導(dǎo)體

太陽能光伏發(fā)電

電信

XPS分析的優(yōu)勢

表面元素的化學(xué)狀態(tài)識(shí)別

除H和He外，可檢測其他所有元素

定量分析

適用于多種材料，包括絕緣樣品（紙，塑料、玻璃等）

可用于深度分析

氧化物厚度測量

XPS分析的局限性

檢測限通常在~ 0.01 %

束斑較大，約為~10 µm

有限的具體有機(jī)物信息

需要超高真空（UHV）環(huán)境

 

 

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