產(chǎn)品描述
中頻淬火層的深度是一個(gè)重要的工藝要求，它對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量有很大影響。淬火層的深度主要決定于加熱電源的頻率，頻率越高，則透入深度越小，直接加熱層及淬火深度也越淺。淬火加熱電源的頻率分為中頻（2.5和8khz）和高頻（70-300kz）兩大類。中頻淬火深度與電源的頻率的關(guān)系是電源頻率：8khz淬火層深度1.3-3.5mm、2.5khz淬火層深度2.4-10mm.。
電源的功率對(duì)淬火層深度也有影響。功率越大，加熱時(shí)間短，直接加熱層的熱量來不及向內(nèi)部傳播。淬火層就越淺。中頻淬火所需要的電源功率與淬火面積有關(guān)，一般取單位面積的功率為（0.5-2）kw/平方厘米。
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