CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)?梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊(wù)。
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和電子行業(yè)的基礎(chǔ)材料,光學(xué),航天,原子能工業(yè),電子,光電子,太陽能電池,裝飾,合金添加劑等各類科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域)
CNM高純材料采用化學(xué)精煉法,電解精煉法,電子書熔煉,區(qū)間熔煉,萃取精煉法,控制晶粒的生長形態(tài)的偏析法提純工藝,濕法提純,化學(xué)提純。材料:純度高,性能穩(wěn)定,延展性好,耐腐蝕性能優(yōu)良,放射性元素含量低,強(qiáng)度高,具有良好的加工性能。
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