等離子電漿拋光設(shè)備

 

環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備主要用于鋁材高光鏡面拋光、去批鋒毛刺處理，影響尺寸精度0.004mm，粗糙度可達0.2，主要用于手機、電腦配件，電子數(shù)碼配件等的產(chǎn)品加工。電離子納米拋光技術(shù)主要是針對目前市場上鋁合金去毛刺的難題而研發(fā)的，該技術(shù)可在去除鋁材表面毛刺的同 時作到表面鏡面拋光效果。 主要技術(shù)要點是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子，原子、分子、原子團、氣離子和和電離子得到數(shù)萬部的增加，而這些離子在對要拋光的工件進行物理摩擦時它們的平均活躍度得到了從未有過的增加，它的活躍程度遠遠高于鋁材表面的活躍度達數(shù)億倍，使鋁材表面的光潔度脫影而出 。環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì)，而且可以對一些人工不可能拋光的準確工件加以拋光。其精度控制較高,尺寸影響小,通�？煽刂圃�0.1微米/分鐘,拋光均勻，使整個工件表面和死角部位都可以達到一致的鏡面效果。增強拋光面的抗腐蝕性能，拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。高純度，有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、準確度提高、堅硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。