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合金牌號：

2014
狀態(tài)：

T3 T4
直徑：

1-15mm
截面厚度：

1-15
截面寬度：

1-15
生產(chǎn)區(qū)域：

國產(chǎn)
鋁含量：

合金
加工方式：

拉拔
用途：

鉚釘線

產(chǎn)品描述

詳細說明1.jpg 詳細說明2.jpg 詳細說明3.jpg 鋁介紹.jpg 鋁介紹1.jpg 鋁線11.jpg 鋁線12.jpg 鋁線6.jpg 鋁線7.jpg

目前中國高度度鋁年產(chǎn)量不足10萬噸，產(chǎn)品供不應(yīng)求。根據(jù)有關(guān)資料統(tǒng)計，國內(nèi)每年高純鋁的缺口在十幾萬噸左右。全部上成熟的提純技術(shù)有兩種：三層液電解法和偏析法。三層液法現(xiàn)在應(yīng)用比較廣泛，但與偏析法比較起來，后者有著省電、低能耗、環(huán)保的優(yōu)勢，平均每噸能省電6000度。而且偏析法利用物理的方法，

整個過程中不涉及其他的任何添加物質(zhì)，不需要特別額外施加能源促進凝固和偏析過程，除了鋁熔煉本身產(chǎn)生的氣體和粉塵外，在生產(chǎn)過程中不會產(chǎn)生任何有毒有害物質(zhì)，符合當前環(huán)保生產(chǎn)的要求。新疆眾河鋁廠以及貴州鋁廠已經(jīng)運用偏析法生產(chǎn)，有消息稱，國內(nèi)其他鋁廠也已開始考慮投產(chǎn)，并與相關(guān)科研機構(gòu)展開了合作。相信隨著國內(nèi)生產(chǎn)工藝的發(fā)展，產(chǎn)品質(zhì)量的提高，高純鋁將是鋁工業(yè)發(fā)展的新方向。

電化學(xué)拋光是金屬陽較溶解的獨特電解過程,它受眾多可

變因素的影響。根據(jù)陽較金屬的性質(zhì)、電解液組成、濃度及工藝條件的不同,在陽較表面上可能發(fā)生下列一種或幾種反應(yīng):

1)金屬氧化成金屬離子溶入到電解液中,M = M2 2e; 2)陽較表面生成鈍化膜,M H2O =MO 2H 2e;

3)氣態(tài)氧的析出, 2H2O=O2 4H 4e;

4)電解液中各組分在陽較表面的氧化。電化學(xué)拋光后的陽較表面狀態(tài)主要取決于上述4種反應(yīng)的強弱程度。然而,由于電化學(xué)拋光過程的復(fù)雜性,至今提出的各種電化學(xué)拋光機制均存在一定的局限性。

在陽較表面生成一層由陽較溶解產(chǎn)物組成的粘性液膜,它有較高的黏度和非常大的電阻,而其厚度在粗糙表面的各個部分是不相等的,在凹陷部位的厚度大于凸起部位的厚度。由于陽較表面的“絕緣”程度不同,因而陽較表面上的電流分布不均勻,凸起部位的電流較凹陷部位的電流大。所以,凸起部位的溶解相對較快,結(jié)果便導(dǎo)致粗糙表面被宏觀拋光。該理論的局限性在于不能回答電化學(xué)拋光過程中是否發(fā)生陽較金屬的鈍化氧化問題,也不能解釋電化學(xué)拋光過程中所特有的陽較較化問題。