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等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
等離子體增強化學氣相沉積法。設備介紹：本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PEC
2017-05-02 9988/臺
離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
等離子體增強化學氣相沉積法。設備介紹：本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PEC
2017-05-02 6999/臺
智能高溫熱處理爐
技術(shù)參數(shù)設備名稱：1200度箱式爐設備型號：BF1200-6/6/6加熱尺寸：深600*寬600*高600mm爐膛容積：216L較高溫度：1200度(1小時)工作溫度：≤1100度(連續(xù))工作電源：三相380V50/60Hz30Kw加溫加熱元件：硅碳
2017-05-02 9999/臺