修改自定義屬性 :
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Si3N4分子中Si原子和周圍4個N原子以共價鍵結(jié)合,形成[Si-N4]四面體結(jié)構(gòu)單元,所有四面體共享頂角構(gòu)成三維空間網(wǎng),形成Si3N4,有兩種相結(jié)構(gòu),α相和β。其共價鍵長較短,成鍵電子數(shù)目多,原子間排列的方向性強,相鄰原子間相互作用大Si3N4存在兩種由[Si-N4]四面體結(jié)構(gòu)以不同的堆砌方式堆砌而成的三維網(wǎng)絡晶形,一個是α-Si3N4,另一個是β-Si3N4正是由于[Si-N4]四面體結(jié)構(gòu)單元的存在,Si3N4具有較高的硬度在β-Si3N4的一個晶胞內(nèi)有6個Si原子,8個N原子其中3個Si原子和4個N原子在一個平面上,另外3個Si原子和4個N原子在高一層平面上第3層與第1層相對應,如此相應的在C軸方向按ABAB…重復排列,β-Si3N4的晶胞參數(shù)為a=0.7606nm,c=0.2909nmα-Si3N4中第3層、第4層的Si原子在平面位置上分別與第1層、第2層的Si原子錯了一個位置,形成4層重復排列,即ABCDABCD…方式排列。氮化溫度高于1400℃時發(fā)生α/β相變,隨著氮化溫度的提高和時間的延長,β相的相對含量增
加,氮化硅的微觀形貌也發(fā)生明顯變化,由針狀和 絮狀形貌轉(zhuǎn)變成片狀形貌后形成長柱狀結(jié)構(gòu) α/β 相變使樣品的相對介電常數(shù)ε′和介電損耗 tan
δ都呈現(xiàn)升高的趨勢,其中tanδ的變化更為 明顯相變導致的氮化硅陶瓷中點缺陷濃度增高是 引起材料介電損耗大幅增加的主要原因。以硅粉和氮化硅晶須為原料,
通過添加30% (質(zhì)量分數(shù)) 成孔劑球形顆粒,以聚乙烯醇作粘結(jié)劑, 采用干壓成型工藝,反應燒結(jié)制備了多孔氮化硅陶 瓷,分析對比了氮化硅晶須對反應燒結(jié)氮化硅多孔
陶瓷介電性能的影實驗結(jié)果表明,隨著氮化硅晶 須加入量的升高,氮化硅多孔陶瓷的介電常數(shù)和介
電損耗都升高,介電性能惡化。氮化硅晶須的加入對試樣的氣孔率沒有基本上沒有影 響, 試樣的氣孔率都大約在60% 晶須在試樣內(nèi)呈無序分布, 在其表面上有氮化硅絮狀物
生成這些反應生成的絮狀物與晶須的結(jié)合界面不緊密, 容易存在微觀缺陷 隨著晶須含量的增加, 試樣的介電常數(shù)與介電損耗都上 升, 且有損耗峰的出現(xiàn),
試樣的介電性能化。
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噴霧器塑料加工就是指將混和好的料漿立即噴霧器到暖空氣中,迅速干躁并獲得樣子標準的球形粉狀的塑料加工方式 噴霧器塑料加工加工工藝,能夠防止料漿中每組份產(chǎn)生再團圓和地基沉降分離出來,能夠維持料漿原來的勻稱性而且獲得的粒度分析勻稱,流通性好噴霧器塑料加工加工工藝可完成持續(xù)自動化生產(chǎn),能夠提升生產(chǎn)率,降低煙塵環(huán)境污染運用噴霧器塑料加工加工工藝顆粒物樣子標準,有益于提升素坯的相對密度及勻稱性,從而改進生胚煅燒特性。
氮化硅(Si3N4)具有良好的抗熱沖擊性、舒緩反應性、耐高溫、耐腐蝕、化學穩(wěn)定性高、強度高、硬度高等一系列優(yōu)異的熱物性能,是一種優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)材料氮化硅(Si3N4)納米線是氮化硅材料的一維納米結(jié)構(gòu)形式,其既具有塊體材料所擁有的各種優(yōu)異性能,同時作為一維納米材料也具備了許多新的特性譬如:氮化硅納米線的抗彎強度(達3.6GPa)與弾性模型(達570GPa)遠高于塊體材料,且具有較好的柔韌性,是一種優(yōu)異的復合材料增強體此外,氮化硅納米線也是一種一維寬帶隙半導體材料(5.3eV),可以通過摻雜對其電學、光學性能進行調(diào)控,在納米電子器件、光子器件領(lǐng)域有重要的應用。
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