太倉希德機械科技有限公司

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Taicang SID Machinery Technology Co., Ltd
主營:離心磨,濕法設(shè)備,攪拌磨,冷卻機,膠體磨,研磨機,剪切機,破碎機

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光催化劑實驗室納米分散機

價格

1000 元/臺

  • 單價:電議
  • 最小起訂量: 1
  • 所在地:江蘇 蘇州
  • 供貨總量: 999
  • 發(fā)布時間:2023-08-02

聯(lián)系方式

產(chǎn)品描述

光催化劑實驗室納米分散機

一、產(chǎn)品名稱概述:光催化劑非常高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線式分散機,光觸媒非常高速分散機

二、光催化劑的簡介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學反應速率的化學物質(zhì),其本身并反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學物質(zhì)的統(tǒng)稱。

三、光催化劑材料的種類

世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯,硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體,其中二氧化鈦因其氧化能力強,化學性質(zhì)穩(wěn)定無害,成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經(jīng)較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學性質(zhì)不穩(wěn)定,會在光催化的同時發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達國家目前已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。

二氧化鈦是一種半導體,分別具有銳鈦礦,金紅石及板鈦礦三種晶體結(jié)構(gòu),其中只有銳鈦礦結(jié)構(gòu)和金紅石結(jié)構(gòu)具有光催化特性。

 

四、光催化原理

因為生產(chǎn)光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料,因此光催化又稱為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的。

根據(jù)固體能帶理論,固體材料的能帶結(jié)構(gòu)可以分為價帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零,所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶,所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間,所以其在一定條件下可以導電。

在半導體中,所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶,比價帶能量更高的能帶便是導帶,介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶,形成了電子和空穴,形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。

五、光催化劑材料的分散

光催化材料應用中,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微;⒕鶆蚧奶幚磉^程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。結(jié)合多家客戶案例,推薦XMD2000系列非常高速研磨分散機,兩級結(jié)構(gòu),先研磨后分散,轉(zhuǎn)速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。或批次式小量分散機LD-1L。


設(shè)備參數(shù)

電源220V,50/60Hz

蕞小允許攪拌量300ml

蕞小允許乳化量500ml

蕞大允許乳化量1000ml

蕞高工作溫度120℃

可達到真空-0.0975Mpa

蕞大處理粘度100,000CP

攪拌馬達功率50W

攪拌速度范圍10-200rpm

攪拌槳配置錨式螺帶刮壁攪拌槳

刮板材質(zhì)PTFE

均質(zhì)馬達功率500W

均質(zhì)速度范圍10000-28000rpm

均質(zhì)工作頭配置20DG

反應釜蓋開口均質(zhì)機口 料斗口 測溫口 真空口 3個功能口

升降支架行程210

與物料主要接觸材質(zhì)SS316L、硼硅玻璃、FKM

真空口外徑10

玻璃釜夾套進、出口外徑12

允許環(huán)境溫度5-40℃

允許相對濕度80%

外形尺寸470?420?1200

標配重量~35kg

光催化劑實驗室納米分散機


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  • 太倉希德機械科技有限公司
  • 經(jīng)營模式:制造商
  • 主營:離心磨,濕法設(shè)備,攪拌磨,冷卻機,膠體磨,研磨機,剪切機,破碎機
  • 地區(qū):江蘇 蘇州

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