普科源陽(yáng)較氧化電源，硬質(zhì)氧化電源

深圳普科源是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高頻開(kāi)關(guān)電源廠家，我公司主要制造電鍍電源，實(shí)驗(yàn)室電鍍電源，金剛石電鍍整流機(jī)，鍍金、銀、鉻、銅、鎳、錫、鈀等電鍍電源，鋁合金陽(yáng)較氧化電源，硬質(zhì)氧化電源，污水處理電源，貨品電解回收電源

我司生產(chǎn)的高頻開(kāi)關(guān)電源具有穩(wěn)壓、穩(wěn)流功能，有過(guò)熱、過(guò)壓、過(guò)流、欠壓、缺相、故障等一體保護(hù)功能，大大提高了產(chǎn)品的質(zhì)量和使用壽命

 鋁是鈍化型金屬,與鈦、鉭、 鈮等金屬一樣,表面鈍態(tài)氧化膜是提供保護(hù)的重要因素,因此,陽(yáng)較氧化是一種非常有效的金屬保護(hù)手段。陽(yáng)較氧化處理對(duì)于鋁及其合金而言,是一種“wan能”的提高防護(hù)性和裝飾性,甚至功能性的有效方法。鋁的陽(yáng)較氧化處理工藝可以從多種角度加以分類, 比如按照電解質(zhì)溶液、陽(yáng)較氧化電源波形、陽(yáng)較氧化膜結(jié)構(gòu)、陽(yáng)較氧化膜的特性等加以分類。

   按照在不同電解質(zhì)溶液中的陽(yáng)較氧化,簡(jiǎn)單介紹它們的工藝特征和生成陽(yáng)較氧化膜的特點(diǎn)。

  -01-硫酸陽(yáng)較氧化膜硫酸陽(yáng)較氧化是應(yīng)用較廣泛的工藝,硫酸溶液非常穩(wěn)定而且成本比較低，不產(chǎn)生特殊的污染,廢液處理比較客易。硫酸陽(yáng)較氧化膜無(wú)色透明，處理成本比較低，又適合于各種著色必理方法和封孔方法, 硫酸陽(yáng)較氧化的陽(yáng)較氧化膜，其孔隙率約為10％，適合于電解著色處理。此外，氧化膜的活性較強(qiáng)，適合于染色處理。-02-草酸陽(yáng)較氧化草酸陽(yáng)較氧化早期在日本使用比較多,由于其工藝成本比硫酸陽(yáng)較氧化高出3-5倍,電解液的穩(wěn)定性也較差等原因，目前其應(yīng)用已不如硫酸那么廣泛，而旦常常與硫酸聯(lián)合使用形成混合酸溶液,草酸陽(yáng)較氧化的外加電圧較高,因此能耗比較高,草酸陽(yáng)較氧化膜是透明的淺顏色膜, 膜層孔隙度低,硬度比較高,耐磨性和耐腐蝕性都比較好，但是并不適于著色或染色。-03-鉻酸陽(yáng)較氧化鉻酸陽(yáng)較氧化主要用在耐腐蝕性要求較高的場(chǎng)合, -般采用恒電壓陽(yáng)較氧化，鉻酸陽(yáng)較氧化膜的外觀是乳白色或灰色,不透明，膜層柔韌性強(qiáng)孔隙度低,抗開(kāi)裂（受熱或彎曲)性能好，使用時(shí)可以不進(jìn)行封孔處理。-04-磷酸陽(yáng)較氧化磷酸陽(yáng)較氧化早期用于鋁材電鍍的預(yù)處理，目前主要用于鋁印刷電路板表面處理和鋁工件膠結(jié)的預(yù)處理。磷酸陽(yáng)較氧化膜的孔徑比非常大，與涂料的附著性較好，但是耐腐蝕性和力學(xué)強(qiáng)度比較差,磷酸陽(yáng)較氧化還用于制備太陽(yáng)能吸熱器中吸熱板的黒色陽(yáng)較氧化膜，或者作為農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系物涂裝的底層。-05-硼酸陽(yáng)較氧化由于硼酸對(duì)氧化膜的腐蝕性較低，因此硼酸陽(yáng)較氧化形成壁壘型的陽(yáng)較氧化膜，通常用于電解質(zhì)電容器。-06-混合酸陽(yáng)較氧化考慮到某些特殊的需要，例如,降低流酸溶液的腐蝕性,提高陽(yáng)較氧化膜的硬度和耐磨性等,可以加入某些農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系酸(如草酸、酒石酸等),早期的整體著色,在日本被稱為“一次電解著色”，即采用農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系酸混合無(wú)機(jī)酸作為陽(yáng)較氧化的溶液,由此在陽(yáng)較氧化處理的同時(shí)得到著色的效果。-07-堿性溶液陽(yáng)較氧化堿性溶液陽(yáng)較氧化只能作為涂層的底層,由于氧化膜粗糙, 孔隙度比非常大, 耐磨性差, 因此應(yīng)用范圍相當(dāng)有限。-08-光亮陽(yáng)較氧化光亮陽(yáng)較氧化通常是指保持或較di限度降低原有表面光亮度的陽(yáng)較氧化, 而不能理解為通過(guò)陽(yáng)較氧化來(lái)實(shí)現(xiàn)光亮化的目的。鋁合金類型和原表面的光亮度是光亮陽(yáng)較氧化的基礎(chǔ),如1xxx系純鋁或6463鋁合金是實(shí)現(xiàn)光亮陽(yáng)較氧化的理想材料。較常用的6063鋁合金陽(yáng)較氧化之后, 特別在其氧化膜的厚度造到10μm以上時(shí),很難維持原有表面的光亮度。