5052細(xì)鋁絲，合金小 口徑鋁線

工業(yè)高純鋁主要做電解電容器用的陽(yáng)較箔、電容器引線、集成電路導(dǎo)線、真空蒸發(fā)材料、超導(dǎo)體的穩(wěn)定導(dǎo)體、磁盤合金和高斷裂韌性鋁合金的基體金屬，以及在科研、化工等方面的特殊用途非常高純鋁具有許多優(yōu)良性能，用途廣泛。它具有比原鋁更好的導(dǎo)電性、延展性、反射性和抗腐蝕性，在電子工業(yè)及航空航天等領(lǐng)域有著廣泛的用途。5N5-6N的非常高純鋁（每種雜質(zhì)的較大含量0.4ppm）96%用于半導(dǎo)體器件制造行業(yè)，4%用作超導(dǎo)電纜的穩(wěn)定化材料在制造集成電路芯片時(shí)陰較濺射是一道必不可少的工藝，這是一種特殊的高技術(shù)工藝，蒸發(fā)的呈等離子狀態(tài)的鋁沉積于陰較靶面，即在硅片上形成一層薄薄的均勻的較少缺陷的鋁膜，隨后在膜上涂一層感光性樹(shù)脂，經(jīng)曝光后除去無(wú)用的部位即未感光的樹(shù)脂，也就是把這些處的樹(shù)脂腐蝕掉，而保留的較窄的鋁條便是所需的導(dǎo)電體。陰較濺鍍用的鋁越純，其電導(dǎo)率也就越高非常高純鋁的另一重要用途是作為集成電路的配線。非常高純鋁中的痕量雜質(zhì)鈾與釷是越少越好，因?yàn)樗鼈兪欠派湫栽�素，在時(shí)時(shí)釋放α粒子，從而造成集成電路出現(xiàn)故障，使程序失誤與混亂。TADE生產(chǎn)的5N2高純鋁中U Th<5ppb（wt%）,5N5非常高純鋁中U Th<1ppb（wt%）。 5N及5N5的大尺寸板狀靶材，大規(guī)模應(yīng)用于PDP及TFT-LCD平板顯示器，太陽(yáng)能電池鍍膜用濺射靶材。板靶原材料中Fe、Si、Cu、V、Ti等雜質(zhì)完全符合相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)。在超導(dǎo)領(lǐng)域，非常高純鋁用作超導(dǎo)電纜的穩(wěn)定化材料。在電子領(lǐng)域5N超純鋁用于制造光電子存儲(chǔ)媒體，如CD、CD-ROM、CD-RW、數(shù)據(jù)盤或微型盤、DVD銀盤等，在銀盤中用5N超純鋁濺射膜作為光反射層。超純鋁中的雜質(zhì)含量較少。雜質(zhì)含量較少使得超純鋁具有一些特殊的性能優(yōu)點(diǎn)典型的性能特點(diǎn) 1．不純物元素含量較低。雜質(zhì)元素含量越低，金屬間化合物密度越小 2．導(dǎo)電性能良。3RRR值高，在較低溫區(qū)的電阻非常小。 3．光反射性能非常強(qiáng)，對(duì)紫外線有很高的反射率！